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蔡司掃描電鏡 SIGMA300場發(fā)射掃描電鏡

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  • 蔡司掃描電鏡 SIGMA300場發(fā)射掃描電鏡

  • 產品分類:掃描電子顯微鏡

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  • 產品簡介:

    蔡司公司最新推出Sigma300場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統(tǒng)設計,將低電壓成像技術發(fā)揮到了極致,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合,多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節(jié)省了設置與分析操作的時間,提高效率。

產品簡介:

蔡司SIGMA 300場發(fā)射掃描電鏡

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 世界頂級光學品牌,可見光學和電子光學的領導者。其電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和ZEISS。1965年推出世界第一臺商業(yè)化掃描電鏡;1985年推出世界上第一臺數(shù)字化掃描電鏡。EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領域,LS 10用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界領先的X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。

用途:

掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。

SIGMA 300場發(fā)射掃描電鏡技術介紹:

分辨率: 1.2nm @15 kV   2.2nm @1kV

放大倍數(shù):10-1,000,000×

加速電壓:調整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現(xiàn))

探針電流: 4pA-20nA (40nA&100nA可選)

低真空范圍: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)

樣品室: 365 mm(φ),275mm(h)

樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動   

X=125mm

Y=125 mm

Z=50 mm

T=-10o-90o

R=360o 連續(xù)

系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

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